[原子力産業新聞] 2007年3月8日 第2370号 <2面> |
原子力機構と芝浦工大 イオン照射で微細構造体を試作日本原子力研究開発機構と芝浦工業大学はこのほど、イオン照射研究施設「TIARA」により、水平加工精度が数百nmで最大加工深さが50μmという3次元微細構造体の試作に成功した。また神戸製鋼所と協力、世界に先駆けてバイオチップなどの製造に必要な小型プロトンビームライティング(PWR)加工装置の開発を開始した。 集積回路などでは電子線(EB)による微細加工技術を用いるが、EBは物質中で散乱するため、大きな深度の加工に限界がある。これに対しプロトンビームは、水平方向の分解能は劣るが深さ方向は数十μmの加工が可能で、高アスペクト比構造に対応できる。 今回、両者は「TIARA」で3MeVの高エネルギーの陽子ビーム径を数百nmまで微細化、これを照射し微細加工する技術を開発。水平加工精度数百nmでアスペクト比10以上の3次元微細構造体を試作した。 原子力機構と神戸製鋼所は、このPWR加工技術を小型装置化するための技術開発を開始。新光学素子やバイオチップなどの製造産業に必要な型の作製用、これら素子のプロトタイプの作製用などとして商品化を目指す。 |